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CSPSD 2025前瞻|九峰山实验室袁俊:新型多级沟槽氧化镓功率
器件
的研究
CSPSD 2025前瞻| 深圳大学刘新科:低成本GaN基GaN功率
器件
CSPSD 2025前瞻| 西安电子科技大学赵胜雷:GaN HEMT
器件
击穿机理多维度分析与探讨
CSPSD 2025前瞻|西安电子科技大学宋庆文:高性能SiC功率
器件
关键技术研究进展
AI驱动产业创新,从材料/
器件
到EDA/设备的多维探索
CSPSD 2025前瞻|江南大学黄伟:高性能宇航级SGT功率
器件
与辐照模型研究
江南大学成果推介:氮化镓微波功率
器件
总投资超50亿元,中低压功率
器件
产业化(株洲)建设项目封顶
CSPSD 2025前瞻|南京大学周峰:氮化镓功率
器件
辐射效应与加固技术研究
CSPSD 2025前瞻|南京大学叶建东:氧化镓异质结构与
器件
CSPSD 2025前瞻|爱发科王鹤鸣:面向功率
器件
制造的先进离子注入解决方案的集成工艺与创新
最新报告嘉宾公布!2025功率半导体
器件
与集成电路会议(CSPSD2025)
CSPSD 2025前瞻|北京大学魏进:GaN功率
器件
动态电阻与动态阈值电压
中国科学院微电子所在碳硅三维异质集成
器件
上取得进展
CSPSD 2025前瞻|炽芯微电子朱正宇:功率
器件
封装技术的发展及展望
中国科学院宁波材料技术与工程研究所郭炜研究员在GaN HEMT
器件
研究中取得新进展
CSPSD 2025前瞻|中国科学院微电子所黄森:高可靠GaN基MIS-HEMT功率
器件
与集成
中国科学院半导体研究所光电子材料与
器件
全国重点实验室诚邀全球英才加盟
标准 |“GaN HEMT DHTOL、功率
器件
用硅衬底GaN HEMT外延片”2项标准形成征求意见稿
CSPSD 2025前瞻| 电子科技大学乔明:用于XPU供电的DrMOS
器件
发展趋势与技术挑战
瑶芯微申请沟槽型MOSFET
器件
结构及其制备方法专利,降低
器件
动态损耗
国家工程研究中心最新突破:磁控溅射AlN覆盖层提升p-GaN HEMT
器件
性能
重庆万国半导体申请沟槽型功率半导体
器件
及其制备方法专利,提高开关速度与线性区能力
苏州晶湛半导体申请发光
器件
相关专利,提高了发光
器件
生产良率
三安半导体“碳化硅功率
器件
的制备方法及其碳化硅功率
器件
”专利公布
广东比亚迪节能科技申请MEMS
器件
及其封装方法专利,降低主体晶圆与衬底晶圆封装难度
MaM发表深圳大学刘新科团队综述文章:下一代功率
器件
的GaN-on-diamond技术
美国海关宣布对消费电子、服务器、半导体
器件
等20项商品豁免关税
中国科学院提出新型平面型面发光有机发光晶体管
器件
结构
英飞凌科技申请功率半导体
器件
相关专利,提升功率半导体
器件
性能
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