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九峰山实验室+华中科大联合攻关,一种新型
光刻
胶技术完成初步工艺验证
全球首颗!我国芯片领域取得重大突破!
芯片,存算一体,忆阻器,人工智能,自动驾驶,光刻胶
简述
光刻
机制造设备
华中大团队成功研发国内首款全自主计算
光刻
EDA软件
EUV
光刻
机在3nm的新挑战
晶瑞电材KrF
光刻
胶项目获新进展
王阳元院士:关键的、核心的集成电路可以成就一个新兴企业乃至一个产业
王阳元
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摩尔定律
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半导体
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ASML第2代EUV
光刻
机开发传瓶颈,神队友救援力拼原时程问世
中科院:上海光机所计算
光刻
技术研究取得进展
国内多家晶圆厂KrF
光刻
胶供应紧张,部分产线面临断供危机
清华大学科研团队新成果:有望为EUV
光刻
光源提供新技术路线
绕开
光刻
机,华为破冰,美媒感叹:太快了
时隔7年,昔日
光刻
机巨头卷土重来,挑战荷兰ASML霸主地位
中科院院长白春礼:在
光刻
机、高端芯片等方面,集结精锐力量组织系统攻关
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白春礼
光刻机
高端芯片
系统攻关
佳能发售半导体
光刻
机“FPA-8000iW”:可应对大型方形基板且解像力达1.0微米
佳能
半导体
光刻机
FPA-8000iW
大型
方形基板
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1.0微米
投资者提问:最近福建安芯半导体一台值近千万元的
光刻
机出货,实现了60%至7...
福建安芯半导体
光刻机
瑞丰
基金
弘芯半导体ASML高端
光刻
机进场 第三家国产14nm工艺来了
弘芯半导体
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14nm工艺
芯源微成功上市,成为中国半导体
光刻
设备上市“第一股”
芯源微
上市
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