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2025云南晶体大会前瞻| 北京大学孙栋：外尔半导体Te--新一代中红外半导体器件材料

2025云南晶体大会前瞻| 中国科学院长春光机所蒋科：基于三族氮化物半导体异质结的光忆阻器研究

2025新一代半导体晶体材料技术及应用大会将于9月26-28日在昆明召开

报告抢先看|“2025新一代半导体晶体材料技术及应用大会”将于9月昆明召开

2025云南晶体大会前瞻| 刘纪美院士：用于集成的硅基III-V器件

2025云南晶体大会前瞻| 富加镓业陈端阳：氧化镓单晶衬底及外延技术研发进展

2025云南晶体大会前瞻|路明科技集团肖志国：固体发光技术引领产业变革

2025云南晶体大会前瞻|中国科学院半导体所徐驰：从气体源到器件：面向下一代信息技术的硅-锗-锡类半导体全流程研究

2025云南晶体大会前瞻|同光半导体王巍：挑战与机遇并存 -- 碳化硅材料市场发展现状及展望

2025云南晶体大会前瞻|西安电子科技大学陶鸿昌：氧化镓异质外延成核调控及肖特基二极管（SBD）势垒均匀性研究

2025云南晶体大会前瞻|厦门大学卢卫芳：GaN/InGaN基核-壳纳米结构选区外延及其Micro-LED器件制备研究

2025（前湾）第三代半导体产业发展大会暨芯片器件及应用项目路演活动即将举办

会议通知 | 2025（前湾）第三代半导体产业发展大会

2025云南晶体大会前瞻|广东工业大学张紫辉：GaN功率半导体器件仿真建模与制备研究

2025云南晶体大会前瞻|中国科学院半导体所张韵：镓体系半导体材料与集成电路发展展望

2025云南晶体大会前瞻|中电科第四十八研究所谢添乐：宽禁带化合物半导体外延关键装备解决方案

2025云南晶体大会前瞻|北京大学王嘉铭：III族氮化物AlGaN基紫外发光器件结构堆垛研究

2025云南晶体大会前瞻|云南大学杨杰：III-V族和IV族半导体晶片及其外延材料的缺陷溯源分析

2025云南晶体大会前瞻|鑫耀半导体韦华：VGF法磷化铟热场优化控制对单晶缺陷形成的影响

2025云南晶体大会前瞻|昆明云锗李宝学：大尺寸红外锗单晶的研究进展

2025云南晶体大会前瞻|云南师范大学郭杰：锗硫属化合物Ge-VIA（GeS/GeSe/GeTe）二维材料的电子结构和光学特性研究

2025云南晶体大会前瞻|天科合达刘春俊：大尺寸碳化硅衬底和外延产业进展

2025云南晶体大会前瞻|浙江大学杭州国际科创中心韩学峰：PVT法生长4H-SiC晶体的缺陷形成与掺杂机理研究

2025云南晶体大会前瞻|西安电子科技大学宁静：超宽禁带半导体范德华异质结构及器件研究

2025云南晶体大会前瞻|云南临沧鑫圆锗业包世涛：中国锗产业发展现状与高质量发展路径展望

2025云南晶体大会前瞻|云南大学王茺：GaSb基异质薄膜的磁控溅射生长机理及其光电探测性能研究

2025云南晶体大会前瞻|云南大学邱锋：晶体本征缺陷的理论研究及晶片表面非故意缺陷的性能调控

2025云南晶体大会前瞻|云南大学史衍丽：1550nm InP/InGaAs 单光子探测器

2025云南晶体大会前瞻|南京大学修向前：氮化镓衬底生长工艺及设备技术研究

2025云南晶体大会前瞻|连科半导体胡动力：8/12吋碳化硅长晶炉技术进展及发展方向

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