6月3日，拓荆科技召开2025年第一季度业绩说明会，公司董事长吕光泉等管理层就经营状况及行业前景回应投资者关切。作为国内薄膜沉积设备与混合键合设备的领军企业，公司已形成半导体薄膜沉积设备、混合键合设备两大产品系列，其中薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机并列为芯片制造三大核心设备
2025年第一季度，公司实现营业收入7.09亿元，同比增长50.22%，但净利润亏损1.47亿元。毛利率下滑主因当季新产品及新工艺收入占比近70%，且客户验证阶段成本较高。管理层指出，部分紧急出货系应对出口管制及客户迫切需求所致，属阶段性特殊情况，未来重现概率较低。目前相关新产品已通过验证并进入量产，长期将提升市场占有率及客户合作深度。
半导体行业在AI、物联网等新兴领域推动下持续扩张，2024年全球销售额达6280亿美元（同比增长19%），预计2030年突破万亿美元。拓荆科技聚焦薄膜沉积设备性能升级与三维集成技术布局，包括开发高产能设备平台（如NF-300M、Supra-H反应腔）及金属ALD工艺，同时推进混合键合设备、熔融键合设备及激光晶圆剥离设备等新品验证与出货。
公司当前在手订单充足，高端半导体设备产业化基地已开工建设，子公司拓荆键科（海宁）正规划新研发与产业化基地。管理层强调将持续做深做精薄膜沉积及键合设备主业，围绕前沿技术布局新产品，并严格履行并购重组等重大事项的信披义务。
