盛美上海:Track设备预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试

日期:2023-12-21 阅读:268
核心提示:盛美上海近期投资者关系活动记录表显示,公司Track设备目前在客户端验证进展顺利,预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测

盛美上海近期投资者关系活动记录表显示,公司Track设备目前在客户端验证进展顺利,预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试;此外,公司也在不断拓展新客户,目前有多家客户在洽谈。明年公司将聚焦KrF设备进入市场,同时公司也将研发浸没式ArF设备。

预计明年公司清洗设备收入仍会保持增长,再叠加公司电镀、炉管设备的放量,公司对明年的业绩持乐观态度;到25-26年度,公司PECVD设备、Track设备开始实现销售收入,预计随着这两款设备市场的不断开拓,将再次推动公司业绩高增长。更长期来看,公司业绩增长将得益于海外市场的不断拓展,盛美的远期目标是国内和海外市场各占一半的收入。

(文章来源:界面新闻)

 
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