新闻资讯
行业活动
专题聚焦
招聘求职
资料下载
视频
天岳先进
长电科技
华为
晶盛机电
产业基地
芯
半导体
赛微电子
首页
新闻资讯
行业活动
专题聚焦
招聘求职
资料下载
视频
首页
>
新闻资讯
>
产业
>
企业动态
0
微博
Qzone
微信
盛美上海推出全新升级版先进封装用涂胶设备
日期:2022-05-27
来源:半导体产业网
阅读:368
核心提示:近日,盛美上海宣布推出升级版的涂胶设备,该款设备在性能和外观进行了优化,应用于先进晶圆级封装。
近日,盛美上海宣布推出升级版的涂胶设备,该款设备在性能和外观进行了优化,应用于先进晶圆级封装。
据介绍,盛美上海涂胶设备兼容200mm和300mm晶圆,可执行晶圆级封装光刻工艺的关键步骤,如光刻胶和Polyimide涂布、软烤;可利用创新性方法和精准的涂胶控制,实现精确的阻挡边缘清除效果。
涂胶腔内采用盛美上海专有的全方位无死角自动清洗技术,可以缩短设备预防性维护(PM)的时间,尤其是针对光刻胶厚度较高(甚至超过100?m)的涂胶应用。
图片来源:盛美上海
据了解,继成立小芯片联盟后,英特尔、台积电和三星等芯片制造巨头加大布局先进封装领域。盛美上海表示,国内封测厂商扩张先进封装产能,国产半导体设备进程加速,今年客户需求依然旺盛,公司订单保持强劲,产能扩张计划推进顺利。此次全新升级的涂胶设备自推出以来已获得不同客户的多台订单,有助于获得更多目标市场份额,增加了盛美上海湿法成套设备的竞争力。
打赏
0
条评论
解析 Wolfspeed 顶部散热 (TSC) 碳化硅功率器件
注册报名开启!早鸟价倒计时15天,即刻注册IFWS&SSLCHINA 2025,抢占第三代半导体产业发展制高点!
2025云南晶体大会前瞻| 厦门大学梅洋:GaN基VCSEL技术进展
2025云南晶体大会前瞻| 中国科学院半导体所沈桂英:InP、GaSb与InAs单晶生长、衬底制备及缺陷研究进展
特思迪成功入选国家级专精特新重点“小巨人”企业名单
开幕倒计时60天!即刻注册IFWS&SSLCHINA 2025,抢占第三代半导体产业发展制高点!
投资2亿!合肥先进半导体实验室项目签约
拓荆科技拟定增募资不超46亿元,用于高端半导体设备产业化基地建设项目等
国新办发布会肯定成都科创成果,实验室全球首个氮化镓量子光源芯片获工信部点名
2025云南晶体大会前瞻| 山东大学陈秀芳:碳化硅单晶材料技术及应用
联系客服
投诉反馈
顶部