上海新阳光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利,样品已送测

日期:2022-05-23 来源:半导体产业网阅读:306
核心提示:据悉,近日,上海新阳在业绩说明会上表示,公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利,已经形成两个系列试验产品,样品已经进入客户端进行测试。由于测试耗时比较长,近期不会有销
据悉,近日,上海新阳在业绩说明会上表示,公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利,已经形成两个系列试验产品,样品已经进入客户端进行测试。由于测试耗时比较长,近期不会有销售的发生,但是产品总体技术的指标还都比较不错,上海新阳对这方面也比较有信心。
 
消息显示,上海新阳2021年完成了几款KrF光刻胶产品的研发、验证并实现销售,在手订单中含有国内主流头部芯片制造公司等大小客户,覆盖铝线制程和铜线制程,用于逻辑、模拟等芯片的生产制造。由于客户对于光刻胶的使用都会比较谨慎,目前还都是小批量使用,所以今年的销售额可能不会很大,但明年用量可能会增加较多,后续增长空间较大。
 
据上海新阳发布2021年年度报告显示,2021年公司实现营业收入10.164亿元,同比增长46.47%;实现归属于上市公司股东的净利润1.041亿元,同比下降60.81%。
 
从产品线盈利方面来看,报告期内,上海新阳主营产品电子化学材料、涂料品业务分别实现营业收入4.19亿元、5.14亿元,占营业收入的比重分别为41.26%、50.56%;毛利率分别为46.15%、25.80%。 
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