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先锋半导体实现
刻蚀
机核心部件国产化,配套台积电全球首条5nm产线
中微半导体首台8英寸CCP
刻蚀
设备顺利付运
中国芯片
刻蚀
机第一人:77岁尹志尧12句话说透芯片制造
深度 | 中微半导体尹志尧:从
刻蚀
跨入化学薄膜赛道!业界:与应材、泛林将痛快再战一场
中微公司:公司12英寸高端
刻蚀
设备已应用于5nm芯片生产
国产
刻蚀
设备进军5nm生产线!中微公司瞄准世界科技前沿,践行三维发展战略
进军5nm 中微公司证实
刻蚀
机进入国际客户最先进生产线
中微公司新一代
刻蚀
设备Primo Twin-StarR交付客户投入生产
中微公司
新一代
刻蚀设备
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MOCVD
中微公司发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3(TM)
深紫
设备
公司
氮化
刻蚀
股份有限公司
原子级工艺实现纳米级图形结构的要求
刻蚀
原子
沉积
工艺
光刻
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