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国产高端光刻胶材料研发商东凯芯半导体完成A轮融资
 评论 ⋅  2025-05-15 10:36
上海新阳：目前建成光刻胶产能100吨，KrF光刻胶多款产品批量销售
 评论 ⋅  2025-05-14 07:57
英国南安普敦大学开设全球第二家电子束光刻工厂
 评论 ⋅  2025-05-06 10:51
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所投影式光刻机采购项目（第二次）公开招标公告
 评论 ⋅  2025-04-29 16:57
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所投影式光刻机采购项目（第二次）公开招标公告
 评论 ⋅  2025-04-29 11:41
复旦大学先进光刻胶材料教育部工程研究中心正式成立
 评论 ⋅  2025-04-24 11:26
俄罗斯完成首台350nm光刻机开发，将批量生产
 评论 ⋅  2025-03-26 17:32
浙江一半导体项目，首台光刻机成功搬入
 评论 ⋅  2025-03-12 11:42
浙江一半导体项目首台光刻机成功搬入！
 评论 ⋅  2025-03-12 10:02
英特尔首批两台High NA EUV光刻机投产，单季生产3万片晶圆
 评论 ⋅  2025-02-25 16:38
杭华股份拟收购浙江迪克60%股权 强化显示光刻胶领域布局
 评论 ⋅  2025-02-21 10:34
日本加强出口管制！42家中国实体列入“黑名单”，涉及处理器、光刻机等领域
 评论 ⋅  2025-02-06 14:01
九奕半导体设备取得光刻机送料机构专利，使硅片涂布更均匀
 评论 ⋅  2025-01-15 13:48
山东发布新材料产业科技创新行动计划，第三代半导体材料、光刻胶等被划重点
 评论 ⋅  2025-01-09 09:42
中芯微取得半导体生产制造用光刻机专利，可实现移动目的
 评论 ⋅  2025-01-07 14:27
大族安莱微米级光刻机项目开工
 评论 ⋅  2024-12-30 17:28
深圳晶源申请光刻胶模型优化方法专利，能够解决模型中存在的过拟合现象和一致性不佳的技术问题
 评论 ⋅  2024-12-27 15:39
粤芯半导体申请光刻机对准方法专利，平衡晶圆中切割道与芯片的研磨速率
 评论 ⋅  2024-10-31 17:11
中芯国际申请光刻机焦距监控相关专利，实现在线焦距监控且对产品晶圆图形影响小
 评论 ⋅  2024-10-28 16:37
尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机
 评论 ⋅  2024-10-25 17:09
Nature Photonics | 基于深紫外microLED显示的无掩膜光刻技术与应用示范
 评论 ⋅  2024-10-15 17:19
国产半导体专用光刻胶领域实现重大突破，已通过量产验证！
 评论 ⋅  2024-10-15 15:18
中科大孙海定iGaN实验室研究三维垂直集成microLED阵列实现无掩膜深紫外光刻新技术
 评论 ⋅  2024-09-30 19:58
浙江奥首材料科技申请一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液专利，减少剥离液中的腐蚀
 评论 ⋅  2024-09-19 17:01
威迈芯材年产100吨半导体高端光刻材料项目封顶 总投资3亿元
 评论 ⋅  2024-09-19 13:45
工信部推广国产DUV光刻机，最小套刻精度≤8nm
 评论 ⋅  2024-09-19 11:58
威迈芯材年产100吨半导体高端光刻材料项目主体结构全面封顶
 评论 ⋅  2024-09-14 15:49
智芯微“光刻胶均匀覆盖晶圆表面的仿真方法”专利公布
 评论 ⋅  2024-09-10 09:58
福建泓光半导体材料取得一种光刻胶自动过滤装置专利，提高工作效率
 评论 ⋅  2024-08-20 20:32
国内首台超大尺寸钙钛矿高速激光刻蚀成套设备发布
 评论 ⋅  2024-08-15 17:55
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