品牌推荐│安储科技与您相约CSE化合物半导体产业博览会_产业_新闻资讯

2024年4月8-11日，一年一度化合物半导体行业盛会——2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会（简称“JFSC＆CSE”）将于武汉光谷科技会展中心举办。张家港安储科技有限公司将携新品亮相本届盛会，诚邀业界同仁莅临参观、交流合作。

本届CSE博览会由第三代半导体产业技术创新战略联盟、九峰山实验室共同主办，以“聚势赋能共赴未来”为主题，将汇集全球顶尖的化合物半导体制造技术专家、行业领袖和创新者，采用“示范展示+前沿论坛+技术与商贸交流”的形式，为产业链的升阶发展搭建供需精准对接平台，助力企业高效、强力拓展目标客户资源，加速驱动中国化合物半导体产业链的完善和升级。

CSE作为2024年首场国际化合物半导体产业博览会得到了多方力量的大力支持，三大主题展区，六大领域，将集中展示各链条关键环节的新技术、新产品、新服务，将打造化合物半导体领域的标杆性展会。助力打造全球化合物半导体平台、技术、产业的灯塔级盛会，集中展示化合物半导体上下游全产业链产品，搭建企业发布年度新产品新技术的首选平台，支撑产业链及中部地区建设具有全球影响力的万亿级光电子信息产业集群。

安储logo

张家港安储科技有限公司是由在国际知名电子材料企业多年研发和生产经验的博士和专业人才所创立，专注于瞄准世界先进水平的先进电子材料研发、生产和销售。公司已经获得姑苏领军和张家港重点领军创业企业等荣誉、2023年获评江苏省民营科技企业称号并通过江苏省高新技术企业认定。公司主营产品：配方型功能电子化学品(主要有抛光液、研磨液、清洗液等）以及电子特气安全存储负压钢瓶所需的吸附材料。产品覆盖130到5纳米制程，适用于铜，钴，钨以及氧化硅，硅衬底以及碳化硅衬底表面。公司拥有核心技术，产品现已经申请发明专利8项、授权1项，实用新型12项、授权10项，PCT3项。公司已经获得ISO9001质量管理体系，ISO14001环境管理体系、 ISO45001职业健康管理体系认证。

产品介绍

碳化硅衬底抛光清洗方案

碳化硅衬底抛光液

碳化硅衬底由于硬度高，脆性大等特点，给抛光带来了极大的难度。安储科技ACTL-WS系列抛光液是一种高效的碳化硅衬底表面抛光产品，在具有较高的材料去除率的同时可获得低表面粗糙度，低缺陷的晶圆表面。而且抛光液可以循环使用，降低了客户的使用成本。

碳化硅衬底抛光液1

碳化硅衬底抛光后晶圆清洗液

传统的碳化硅晶圆抛光后清洗一般都采用RCA工艺清洗，清洗流程长，工艺要求高。安储科技WK系列清洗液是专为碳化硅CMP抛光后有效清洗晶圆表面而设计的配方类清洗液，使用一步清洗，缩减了清洗工艺，清洗效果好，能有效的去除晶圆表面有机物以及颗粒等污染物。

碳化硅衬底抛光后晶圆清洗液

碳化硅衬底抛光后机台抛光垫清洗液

碳化硅衬底抛光液因使用高锰酸钾等氧化剂，对机台以及抛光垫会有一定腐蚀性，安储科技开发的PK系列研磨后机台研磨垫清洗液可以有效的清洗抛光后残留物，清洗性能优异，清洗时间短，并可稀释使用，降低客户成本。

碳化硅衬底抛光后机台抛光垫清洗液1

碳化硅衬底抛光后机台抛光垫清洗液2

抛光后清洗液PCMP

半导体制程中化学机械抛光（CMP）后表面易产生研磨粒子，有机物，金属离子等缺陷。需要通过特殊的功能性化学清洗减少缺陷，提高良率，这是芯片生产中必须的步骤。

安储科技开发了系列PCMP抛光后清洗，产品覆盖130nm至5nm制程，适用于不同材料抛光后的清洗，比如铜，钴，钨以及氧化硅表面等。

抛光后清洗液PCMP

铜蚀刻液

安储科技开发的铜蚀刻液不含氟离子，环保安全，可精确控制对铜的蚀刻速率以及刻蚀角度，没有倒角，并且无残渣残留，产品的Bath life长，在较高铜离子浓度下仍能保持优异的蚀刻性能。

光刻胶剥离液PR Stripper

半导体芯片，LCD， LED，平板显示中用于形成特定图案的光阻剂必须完全清除干净同时对其他接触材料没有损伤。以有机溶剂为主的剥离液在半导体中长期使用。对其他接触材料基本没有损伤，但对于较厚的光阻清除效果不是很理想。由于半导体技术和光阻材料的发展，目前商用的配方型含有机溶剂的剥离液的清除效果有待提高并且价格较高。

安储科技高效低成本的配方型光阻剥离液能够有效的清除各种光刻胶，同时不蚀刻或者侵蚀其他暴露的材料，不仅仅用于先进半导体芯片中而且也用于LCD， LED，平板显示制程中。

光刻胶剥离液PR Stripper