【CASICON 2023 西安站】 西安和其光电常务副总经理康利军:温度量测传感器在半导体芯片制程中的应用

日期:2023-07-27 阅读:487
核心提示:温度量测传感器在半导体芯片制程中发挥着重要作用。它们被广泛用于监测和控制半导体芯片制造过程中的温度,以确保制程的稳定性、

温度量测传感器在半导体芯片制程中发挥着重要作用。它们被广泛用于监测和控制半导体芯片制造过程中的温度,以确保制程的稳定性、可靠性和性能。

2023年7月26-28日,“2023功率与光电半导体器件设计及集成应用论坛”将于西安召开。论坛由第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)指导,西安交通大学、极智半导体产业网(www.casmita.com)、第三代半导体产业主办,西安电子科技大学、中国科学院半导体研究所、CASA人才发展委员会、全国半导体应用产教融合(东莞)职业教育集团联合组织筹办。

康利军

期间,“平行论坛2:光电子器件及应用”上,西安和其光电股份有限公司常务副总经理康利军做了题为“温度量测传感器在半导体芯片制程中的应用”的主题报告,分享了荧光光纤测温技术、红外光学测温技术、光谱解调技术、Wafer测温技术等技术进展。温度量测传感器几乎贯穿半导体芯片制造所有关键工艺。

报告中还详细分享了石墨纯化和多晶硅还原炉红外测温、SIC晶体生长工艺和温度、SIC外延炉测温、氧化扩散炉红外测温、薄膜沉积设备红外测温、刻蚀工艺测温、IC wafer 在光刻和离子注入工艺中的应用测温等诸多产品和应用状况及优势对比。并总结了温度量测设备在SIC芯片制造工艺过程应用中要求的不同指标。

其中,对于SIC硅单晶生长炉红外测温应用,报告指出,采用比色红外测温通过小尺寸的窗口,精确测量坩埚、石墨管、隔热材料的温度实时温度,整个的生长过程中对加热的情况进行准确掌握,保证晶体生长质量,提高成品率和生长效率。PECVD设备(等离子体增强化学气相沉积法),该设备涉及预热室预热、冷却等温度控制。因此需要温度测量传感器以实现可编程逻辑温度控制。加热过程中经常出现的温度波动影响加热体的加热均匀性或造成对被加热体。温度监测的方法来提高产品的成品率,降低生产成本。各种测温技术互补,目前和其光电可以提供半导体芯片制程中温度量测的整体解决方案。

嘉宾简介

康利军 西安和其光电科技股份有限公司常务副总经理,西安文理学院特聘教授,世界轨道交通研究会专家理事。毕业于中科院西安光机所,主要从事温度量测传感器的研究及产业化,承担国家各类课题二十余项,曾获陕西省科学院技术进步一等奖,发表论文10余篇,专利20余项。2011年联合创办西安和其光电,成功推动科技成果转移转化,解决了我国若干重要领域的关键温度参数测量技术问题,提升了我国半导体、轨道交通、电力系统、石油化工等领域温度在线监测的整体技术水平。突破了量测传感行业发展瓶颈,通过技术和应用创新,满足各行业用户需求,形成产业规模。系列量测传感器产品已应用于国内32个省市和国外30多个国家。

关于和其光电

西安和其光电科技股份有限公司(Optsensor)成立于2011年,是由中国科学院西安光机所孵化的高科技公司,拥有中科院西安光机所50年技术积淀,是全球知名的光学量测传感仪器品牌商之一,主要针对不同行业不同加工设备提供整套的温度、压力、气体浓度等光学量测传感仪器的研发、生产、销售、应用与技术服务。确保设备的稳定高效运行,提升设备设计制造质量和使用效率,为用户带来卓越的经济和安全价值。

系列传感仪器应用已遍布国内各省市和欧洲非洲等地区,广泛应用于半导体、电力、轨道交通、钢铁冶金、煤炭开采、石油化工、微波医疗、食品安全、科学研究和国防等领域。目前和其光电已经成为国内外多家半导体设备头部企业的供应商。红外测温仪可用于各种长晶、外延、刻蚀、沉积设备中;光纤测温可用于静电吸盘的温度监测;TC Wafer可用于各种晶圆温场的测试中;IC Wafer可用于各类刻蚀、离子注入设备中。

虽然和其光电红外测温产品推出市场时间不久,但基于中科院西安光机所50多年的技术积累,产品一经问世,重复测量最高就能达到0.15%测量值的超高精度,加上快捷便利的国内交付及服务,因此快速获得国内业界的青睐和采用,藉此为国产替代贡献力量、展现价值。

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