喜讯|中机新材在中国创新创业大赛中喜获佳绩!

日期:2022-12-01 阅读:270
核心提示:为响应国家第三代半导体战略规划,中机新材率先在行业内推进碳化硅衬底研磨抛光解决方案的落地,并实现客户批量供应,包括碳化硅

 “为响应国家第三代半导体战略规划,中机新材率先在行业内推进碳化硅衬底研磨抛光解决方案的落地,并实现客户批量供应,包括碳化硅切割段的切割钢线及砂浆助剂方案、研磨段的替代碳化硼+铸铁盘的团聚钻石液+树脂蜂窝垫方案.....”

▲ 中机新材在中国创新创业大赛中喜获佳绩!

▲ 团聚金刚石与单颗金刚石对比图

近日,由科技部、财政部、教育部、中央网信办和全国工商联共同举办的第十一届中国创新创业大赛全国赛圆满结束。深圳中机新材料有限公司(文中简称“中机新材”)报送的“团聚金刚石合成技术”方案,从众多参赛企业中脱颖而出,荣获全国赛新材料组的“优秀企业”奖。作为一家专业的硬脆材料研磨抛光材料研发和制造企业,中机新材一直立足行业前沿,坚持自主研发,坚持产品创新,不断整合全球先进的技术,通过技术与工艺的创新,为客户提供更具价值的研磨抛光新型材料解决方案,助力中国制造走向世界。

▲ 荣获“荣誉证书”与“优秀企业”

 中机新材的团聚金刚石研磨抛光系列产品,以更高速率,更低损伤,更佳环保性能,在多个精密研磨抛光领域已经广泛应用;为响应国家第三代半导体战略规划,中机新材率先在行业内推进碳化硅衬底研磨抛光解决方案的落地,并实现客户批量供应,包括碳化硅切割段的切割钢线及砂浆助剂方案、研磨段的替代碳化硼+铸铁盘的团聚钻石液+树脂蜂窝垫方案、DMP的聚晶钻石液+聚氨酯垫方案,双面CMP的高锰酸钾氧化铝抛光液+无纺布方案、单面CMP的双组份氧化硅抛光液+阻尼布方案等。在确保满足碳化硅研磨抛光各工段加工参数要求的前提下,结合客户实际情况,中机新材与客户共同对产品和方案进行有针对性的持续优化,帮助客户不断提升加工效率,有效减短加工时长,提升了良品率;尤其在长期被国外垄断的关键材料应用环节,实现部分国产替代,真正为客户做到降本增效。

▲ DMP&CMP操作台 

 作为国内领先的研磨抛光材料解决方案服务商,中机新材将持续坚持技术创新,以科技赋能制造,聚焦研磨行业,以强烈的使命感和创新精神,推动中国研磨抛光材料高端化、精密化和国际化进程,推动中国制造,提升国际竞争力。为成为“世界级研磨抛光材料领军企业”而不懈努力。中机新材 --- 中国机遇,创新研磨!

 
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