本文报道了一种通过等离子体预处理HOPG衬底，并使用化学气相沉积生长出全部都为单层WS2的方法。结果表明，生长的WS2形态对等离子体处理参数有很强的依赖性，包括气体源成分、源功率和处理时间。通过表征发现等离子体预处理后的HOPG表面C-C键断裂并形成小团簇，这可以作为WS2后续生长的成核位点。WS2晶体的生长模式受团簇高度的影响较大。当高度大于异质结构的层间间距时，WS2的生长从二维模式向三维模式转变。此外，在WS2/HOPG异质结构中观察到不同转角的摩尔电子超晶格，并通过第一性原理计算进一步分析了其形成机理。
首先在新解理的HOPG制备了WS2，如图1，可以看出WS2晶畴密度较低且尺寸小于5 μm。此外， AFM表征发现WS2样品表现为三维(3D)的塔状结构。这是由于新解理HOPG表面几乎没有悬垂键，很难形成稳定的成核点，导致生长密度较低，并且很难诱导单层WS2在其表面生长。
为了在HOPG衬底上合成单层WS2，对HOPG表面进行等离子体处理以产生成核位点。首先，分别用氩、氮、氧和氢等离子体对HOPG衬底进行了处理。从图2中可以发现WS2样品均为~ 2 μm的三角形晶畴。氢等离子体处理过的HOPG衬底生长出了单层的WS2，而其他等离子处理都诱导了出3D多层塔状生长。因此，氢等离子体处理的HOPG有利于单层WS2的生长。为了提高单层WS2生长的比例，我们通过优化氢等离子体处理时间，最终在氢等离子体处理60s(10 W)的条件下实现了全部为单层WS2的诱导生长，如图3(b)所示。
图2.不同等离子体源处理下HOPG上生长WS2晶体的形态特征。(a)氩等离子体,(b)氮等离子，(c)氧等离子，(d) 氢等离子体;（射频源功率为10 W，处理时间为30 s）。(e)和(f)分别为(a)和(d)中代表性WS2晶体的AFM图像。
图3. 不同处理时间后在HOPG上生长WS2晶体的SEM图像。(a)30 s，(b)60 s，(c)90 s，(d)120 s(射频源功率为10 W)，(e)为在(b)中单层WS2的AFM图像，(f)为(b)中单层WS2的拉曼光谱。
为了更深入地了解WS2在等离子体修饰的HOPG上生长的内在机制，我们通过扫描隧道显微镜（STM）进一步研究了HOPG的表面形貌。如图4(a)所示，未经等离子体处理的新解理HOPG是原子级平坦的，而氩等离子体处理后，如图4(c)所示，表面明显粗糙，出现一些较大的团簇或凹坑，其统计平均高度约为0.50 nm。相比之下，经氢等离子体处理的表面仅形成小而稀疏的团簇，平均高度约为0.20 nm(图4(d))。基于上述特征，我们提出了WS2在HOPG表面上的生长机理。由于新解理的HOPG表面吸附能较低，W和S原子或其化合物在生长初期倾向于吸附在团簇周围，然后逐渐成核生长。如图4(e)所示，当团簇高度大于单层WS2与HOPG之间的层间距离3.3 Å时，WS2以3D方式生长，形成塔状多层结构。而对于高度小于层间间距的小团簇，则会诱导WS2转变为二维生长(图4(f))，导致单层WS2的形成。
最后，对WS2/HOPG异质结构进行了进一步的STM研究。据报道，当单层TMDCs（如WS2、MoS2）生长在HOPG或石墨烯上时，倾向于形成转角为0°或60°的摩尔超晶格。图5(b)-(d)显示了转角分别为0.6°、5.5°和9.5°的摩尔超晶格。为了进一步阐明它们的堆叠结构，构建了转角异质结的原子模型，如5(e)-(g)所示，其中摩尔超晶格的周期性与对应的STM图像具有良好的一致性。同时对单层WS2样品与HOPG衬底之间的转角进行了统计，发现近70%的样品扭转角在0 ~ 6°之间，如图5(h)所示。并且通过第一性原理计算的平均结合能随扭转角的增大而逐渐增大，且扭转角为0°的异质结构是最稳定的体系，如图5(i)所示。需要指出的是，团簇作为核点，对晶体生长方向也有轻微的影响，导致扭转角的分布变宽，导致样品中出现了少量扭曲角较大的异质结。
本文第一作者为厦门大学宽禁带半导体研究组硕士研究生周小文和博士研究生张宗南，通信作者为吴雅苹教授、李煦副教授和吴志明教授。厦门大学宽禁带半导体研究组在康俊勇教授的领导下，长期致力于半导体材料、表面与界面、量子结构材料等凝聚态物理基础领域研究，同时也基于深厚的凝聚态理论基础，开展微电子学和固体电子学的应用研究，包括大功率LED、深紫外LED、日盲探测器、新型太阳能电池、自旋器件、纳米材料与器件等等。近年来承担了国家重点研发计划、“973”规划、“863”计划、国家自然科学基金重点专项、省部级重点项目等研究50多项，已在国际学术刊物上发表SCI/EI收录论文数百篇。部分研究已取得突破性进展，获2017年度福建省科技进步一等奖和厦门科技进步一等奖。
文章信息
X. Zhou, Z. Zhang, X. Zeng, et al. Direct synthesis of moiré superlattice through chemical vapor deposition growth of monolayer WS2 on plasma-treated HOPG. Nano Research. https://doi.org/10.1007/s12274-022-4487-z.
原文链接：
https://www.sciopen.com/article/10.1007/s12274-022-4487-z?utm_source=wechat_organic&utm_medium=article&utm_campaign=sciopen
（来源： NanoResearch）
