颇尔集团在新加坡投资新工厂,主要提供光刻和湿蚀刻过滤等解决方案

日期:2022-05-21 阅读:461
核心提示:新工厂将主要提供光刻和湿蚀刻过滤、净化和分离解决方案,帮助满足对先进节点解决方案的高需求。
半导体产业网消息:过滤、分离和净化技术领域的领先企业颇尔集团(Pall Corporation)宣布建设一家新制造工厂,该工厂将致力于为半导体制造商提供先进节点的解决方案。
 
Pall第一阶段扩张的投资将超过1亿美元,并将在后续建设过程中加大投资。该工厂将位于新加坡西部。
 
新工厂将主要提供光刻和湿蚀刻过滤、净化和分离解决方案,帮助满足对先进节点解决方案的高需求。该工厂将位于2.8公顷的园区内,包括18000多平方米的制造和办公空间。
 
第一阶段建设将在2022年夏开始,大批量制造(HVM)能力将在2023年末至2024年初间完成。该工厂的产能将在后续几年分阶段增加到最大产能。该工厂完成后,Pall目前的制造微电子过滤和净化解决方案的装机产能将增加两倍多。为了支持新工厂,公司计划聘用300多名拥有科学、工程和制造经验的员工。
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