国家地方共建硅基混合集成创新中心落户重庆

日期:2021-08-23 来源:CUMEC阅读:333
核心提示:近日,联合微电子中心有限责任公司(以下简称:CUMEC)获国家工信部正式批复组建国家地方共建硅基混合集成创新中心,这也是重庆市首个国家级制造业创新中心。
近日,联合微电子中心有限责任公司(以下简称:CUMEC)获国家工信部正式批复组建国家地方共建硅基混合集成创新中心,这也是重庆市首个国家级制造业创新中心。
 
创新中心有多牛
 
依托CUMEC组建的国家地方共建硅基混合集成创新中心,至2021年7月已累计完成125项专利申请,承担了国家级科研项目9项,期间完成了多个国内首创且国际先进的成就,有效解决了我国硅光流片工艺平台缺乏和硅光工艺缺失的“卡脖子”问题。
 
具体要干嘛
 
该中心将围绕我国硅基混合集成行业创新发展和关键共性技术需求,通过汇聚我国硅基混合集成领域的骨干企业和科研院所力量,建设面向光电融合微系统的硅基光电子、异质异构集成的8英寸工艺平台,开发以光电融合微系统为主要特色的工艺,突破高端硅基混合集成芯片制造关键技术,形成一批关键工艺的独立自主知识产权和核心技术,使创新中心成为具有国内领先、国际一流水平的创新平台,支撑我国硅基混合集成产业链核心竞争力提升,推动我国硅基混合集成行业的创新发展。
 
联合微电子中心有限责任公司是重庆市委市政府为贯彻落实习近平总书记重要指示精神,贯彻落实国家创新驱动发展战略和科技自立自强、安全高效发展要求联合打造的一个创新服务平台,定位于探索“后摩尔”发展新路径,走光电融合发展的技术路线,建成了国内首条硅基光电子全流程自主工艺线,与世界上主要硅光工艺平台水平相当。
 
2020年5月,面向全球发布了“180nm成套硅光工艺PDK”与国内外100多家企业达成了合作协议,已为50多家国内外企业提供了流片服务,并建成国内首个硅光芯片全流程封装测试实验室。
 
2021年6月,面向全球正式发布三套工艺PDK——130nm成套硅光工艺PDK、300nm氮化硅光电子工艺PDK、三维集成工艺PDK,标志着CUMEC成为国内首个基于8英寸工艺线同时开放硅基光电子、异质异构三维集成等四套工艺的光电集成高端特色工艺平台,器件性能和工艺能力处于国内领先、国际先进水平,具备面向全球客户提供光电微系统解决方案的能力。
 
下一步,CUMEC将加快集成电路先进工艺布局发展,对标国际一流建设开放高端特色工艺平台,不忘初心使命支撑科技自立自强,为国家集成电路发展突破瓶颈、重庆市建设西部(重庆)科学城和成渝双城经济圈做出更大贡献!
 
接下来,CUMEC将进一步紧密围绕国家地方共建硅基混合集成创新中心的主要目标和任务方向,聚焦国家重要先进制造业中心建设目标,加快培育以企业为主体、市场为导向、产学研结合的技术创新体系,深化高端创新平台建设,进一步吸收整合硅基混合集成领域创新资源,构建覆盖产业链上中下游、整合全产业链的特色工艺研究的开放创新平台,同时优化内部运行和经营机制,不断提高制造业创新中心建设水平,使创新中心成为全球硅基混合集成电路制造业发展的创新机构和技术源泉,助推我国集成电路产业高质量创新发展。
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