英特尔将采用全球首台High-NA EUV光刻机

英特尔公布将采用下一代极紫外光刻（EUV）技术的计划，即高数值孔径（High-NA）EUV。借此，英特尔有望率先获得业界第一台High-NA EUV光刻机。据悉，英特尔正在与ASML深入合作以确保攻关这一技术，并称将超越当前一代EUV。在时间表上，英特尔将其划归在2025年以后。