韩国极紫外线（EUV）半导体设备专业公司ESOL日前成功获得740亿韩元的B轮投资。这是韩国今年上半年第二大规模投资，仅次于人工智能（AI）平台公司Wrtn Technologies获得的830亿韩元。在投资持续低迷且资金高度集中于AI领域的背景下，这一成就尤为显著。
半导体设备行业将此次投资视为不仅仅是资金筹集。这被视为韩国半导体行业核心工艺EUV领域基于技术内部化的后续产品商业化正全面展开的信号。一些分析师预测，最早今年就可能出现有意义的成果。
EUV光刻工艺是半导体微型化的主要推动力，在全球半导体设备生态系统中拥有最高的进入壁垒。荷兰公司主导了在晶圆上绘制电路的EUV光刻机。日本Lasertec垄断了掩模缺陷检测设备，而德国蔡司垄断了投影光学系统和其他光学系统，形成了强大的生态系统。
各种缺陷检测设备对于EUV光刻机生产先进晶圆至关重要。这是稳定供应EUV掩模的先决条件。ESOL商业化的掩模检测设备SREM在掩模生产过程中发生的缺陷上扮演最终判断的角色。在EUV光刻机在晶圆上绘制电路后，需要EUV图案掩模检测器来检查完成的掩模上是否存在图案缺陷。Lasertec的掩模检测器检测潜在问题。然后，蔡司的掩模检测设备被部署来彻底检查缺陷，就像在显微镜下提供精确诊断一样。最终，多个检测设备在EUV光刻工艺中发挥互补作用，确保高质量、无缺陷的掩模。
韩国ESOL通过挑战蔡司曾经垄断的领域，强调本地化和供应链多元化，正迅速渗透市场。当比SREM具有更高生产力的后续产品FREM商业化后，预计将带来生产力和性能的革命性进步，可能吸引韩国国内代工厂和各种全球客户的响应。
据悉，ESOL将把这笔资金投入扩建位于京畿道东滩的半导体生产工厂，并内部研发光学系统组件。目标是通过不仅组装镜面光学等核心组件，还自行生产它们来内部化供应链。作为全球第四家拥有自己的EUV光源和内部化组件能力的公司，这增强了其作为韩国代表性EUV公司的潜力。创业团队由来自ASML、KLA（科磊）和浦项工科大学的半导体设备人才组成，由被视为韩国顶级光刻专家、在三星电子半导体研究中心工作超过20年的CEO Kim Byeong-guk和EUV技术专家CTO Lee Dong-geun领导，这在韩国是罕见的专业人才集合。
根据全球市场研究公司Market Research Insights的数据，全球掩模检测系统市场规模预计将从2024年的12亿美元增长到2033年的25亿美元，复合年均增长率（CAGR）估计为9.2%。业界也期待ESOL在EUV设备领域成为一种平台型企业的潜力。ESOL另一主打产品是薄膜透射率检测设备，考虑到材料制造商Fine Semitech Corp是其母公司，在协同效应和可扩展性方面被认为具有优势。
（来源：集微）
