英诺赛科邹艳波:GaN快充技术趋势及进展

日期:2021-04-26 来源:第三代半导体产业网阅读:377
核心提示:英诺赛科科技有限公司高级产品应用经理邹艳波带来了“GaN快充技术趋势及进展”的主题报告
大功率、高密度、多接口已经成为快充电源市场的发展趋势,5G手机快速发展中,5G手机耗电量增大,串联双电芯设计,电荷泵的应用等,促使快充技术迅速发展,快充充电功率越来越大。
 
近日,2021功率半导体与车用LED技术创新应用论坛在上海举行。本届论坛由半导体产业网和励展博览集团共同主办,并得到第三代半导体产业技术创新战略联盟、国家半导体照明工程研发及产业联盟的指导。
邹艳波
会上,英诺赛科科技有限公司高级产品应用经理邹艳波带来了“GaN快充技术趋势及进展”的主题报告,详细分享了GaN快充发展趋势以及英诺赛科GaN市场进展。
 
对于GaN快充发展趋势,报告指出,5G手机的普及极大地促使快充技术迅速发展,5G手机耗电量增大,串联双电芯设计,电荷泵的应用,快充充电功率越来越大。并且,功率密度提升促进便携性,高频化推动快充的小型化,GaN技术不断迭代助力快充高频高效。
 
同时,平面变压器应用成为趋势,具有高频一致性好、便于高功率密度快充生产加工、便于减小漏感等特点。快充模组化方面,未来快充朝着高度集成化发展,变成材料层面的集成,电源的制造和形态朝着芯片化发展;电路与磁材融合集成形成电磁结合,模块采用含磁粉的材料塑封,具备更好的散热特性和EMC特性;工作频率100倍提高,集成度更高。
 
邹艳波介绍,英诺赛科作为国产硅基氮化镓厂商,有2个8英寸硅基氮化镓芯片研发生产基地,30V-650V 产品全面覆盖。高压出货量达600W颗,并推出全球首款标配 120W GaN 快充。其中,InnoGaN 120W 快充方案,内置INN650D02,具备磁性元件、电容器体积大幅减小,DFN封装,超低热阻,全面实现小型化,高效率,温升更低。

并且,InnoGaN 33W快充迅速上量,30W GaN快充或将成为苹果入局氮化镓快充的首款作品。InnoGaN33W 方案内置英诺赛科产品:INN650DA04,2 倍 功率密度,3.5% 效率提升,累计订单已突破 2kk。

他还透露,英诺赛科致力于用硅基氮化镓打造绿色高效的新世界。目前可在高、低压领域提供多样化整体解决方案,并延伸至可穿戴、无人机、电动玩具、家用清洁机器、笔记本、电动车等快充的多领域拓展。
 
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