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攻克行业空白!中镓半导体实现6/8英寸
GaN
衬底制备
2025云南晶体大会前瞻| 厦门大学梅洋:
GaN
基VCSEL技术进展
2025云南晶体大会前瞻|厦门大学卢卫芳:
GaN
/In
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基核-壳纳米结构选区外延及其Micro-LED器件制备研究
2025云南晶体大会前瞻|广东工业大学张紫辉:
GaN
功率半导体器件仿真建模与制备研究
2025云南晶体大会前瞻|北京大学王嘉铭:III族氮化物Al
GaN
基紫外发光器件结构堆垛研究
英诺赛科宣布第三代700V
GaN
增强型氮化镓功率器件系列全面上市
标准 | 《高频开关应用下
GaN
HEMT开关可靠性试验方法》发布
新洁能延期包括第三代半导体SiC/
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功率器件及封测等三个募投项目
纳微双向
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激活微逆单级“芯”突破
英诺赛科发布100V低边驱动IC,拓展V
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™生态系统
国际首发!深圳平湖实验室研制8英寸4°倾角4H-SiC上高质量
GaN
外延
英诺赛科与联合电子成立氮化镓 (
GaN
) 技术联合实验室致力于新能源汽车电力电子系统开发
广东致能:全球首发硅基垂直
GaN
HEMT 功率器件技术
标准/“
GaN
HEMT开关可靠性试验、功率器件用硅衬底
GaN
外延片”2项标准形成委员会草案
中科院微电子所黄森、刘新宇团队在
GaN
外延位错传导载流子及其导致功率电子器件可靠性退化机制方面取得重要进展
比利时氮化镓厂商Bel
GaN
破产损失高达100万欧元
《
GaN
半导体激光器产业发展蓝皮书》启动编制工作,征集业内机构及企业参编单位!
氮矽科技推出TOLL封装的增强型硅基氮化镓(
GaN
)晶体管
科研成果| 硅基金刚石热沉在
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功率放大器中的应用
国产突破!无锡先为科技首台
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MOCVD外延设备成功发货
深圳平湖实验室
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课题组刘轩博士研究成果亮相国际顶级学术会议ISPSD2025
CSA半导体激光器专委会启动半导体激光器团体标准制定与
GaN
激光器产业发展蓝皮书编制工作
标准 |《UIS应力下
GaN
HEMT在线测试方法》发布
北京大学团队成功研制无阈值电压负漂650V/10A增强型
GaN
器件
京东方华灿
GaN
电力电子突破:消费级可靠性1000H突破,工业级JEDEC蓄势待发
标准 |“
GaN
HEMT DHTOL、功率器件用硅衬底
GaN
HEMT外延片”2项标准形成征求意见稿
1250mW、BLG 展示创世界纪录的单模
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激光器
CSPSD 2025前瞻|上海大学任开琳:E型
GaN
HEMT和pFET的稳定性增强研究
科研成果| p-
GaN
栅HEMT器件在负栅压阻断态下的重离子辐照 可靠性实验研究
CSPSD 2025前瞻|中国科学技术大学杨树:高压低阻垂直型
GaN
功率电子器件研究
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