• 中国科学院北京纳米能
    AlGaN/GaN HEMT能带工程和界面调制AlGaN/GaN HEMT energy band engineering and interface modulation胡卫国中国科学院北京纳米能源与系统研究所研究员HU WeiguoProfessor of Beijing Institute of Nanoenergy and Systems, Chinese Academy of Sciences
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    guansheng2023-05-22 15:02
  • 武汉大学研究员张召富
    4H-SiC MOSFET中界面碳团簇的形成和迁移率退化机理Interfacial Carbon Cluster Formation and Mobility Degradation in 4H-SiC MOSFETs张召富武汉大学工业科学研究院研究员ZHANG ZhaofuProfessor of The Institute of Technological Sciences, Wuhan University
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    guansheng2023-05-22 13:56
  • 浙江大学杨树:基于界
    基于界面调控的垂直型GaN功率二极管研究杨树浙江大学
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    guansheng2022-09-01 14:37
  • 刘少煜:一种通过提高
    《一种通过提高界面处sp2-碳含量改良4H-SiC欧姆接触的方法》作者:刘少煜,程新红,郑理,刘晓博,俞跃辉单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
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    limit2022-01-07 13:35
  • 王新强:二维材料上氮
    《二维材料上氮化物半导体准范德华外延界面调控研究》作者:刘放,王涛,张智宏,申彤,杨怀远,盛博文,荣新,陈兆营,刘开辉,李新征,沈波,王新强单位:北京大学
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    limit2022-01-06 10:48
  • 【视频报告 2018】星
    常州星宇车灯股份有限公司工程师李茹分享了热界面材料的特性及其对LED车灯散热和可靠性影响的研究成果,结合具体的研究实践,她
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    limit2021-04-29 12:11
  • 【视频报告 2018】杨
    桂林电子科技大学机电工程学院院长、教授杨道国带来了题为电子封装中界面层裂的仿真模拟与表征的报告,分享了该领域的最新研究成
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    limit2021-04-29 12:11
  • 极智报告|大连理工大
    大连理工大学王德君教授在“SiC MOS界面陷阱的钝化技术及电子性能”报告中介绍了缺陷到底是什么样子,缺陷如何去钝化以及进一步的研究工作进展。并把下一步的工作和进一步实用化的相关内容,包括产业方向上的发展做了详细介绍。并介绍了核心的钝化技术,比较独特,这个钝化它的研究都是建立在它的物理技术之上,所以这个测试比较强。
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    limit2025-04-30 13:41
  • 极智报告|德国英戈尔
    德国英戈尔施塔特应用技术大学Schmid MAXIMILIAN分享“新型瞬态热分析试验装置分析LED烧结界面质量”。他介绍说,在线可靠性分析,加速寿命测试或者现场测试在生产中变得越来越重要。因为器件失效与温度相关,结壳热阻是LED最重要的参数之一。常用的耐热测量方法是瞬态热分析(TTA)。但TTA非常耗时并且工作繁杂。讨论了TTA的改进。因此,开发并引入了新的测试设备。.....
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    limit2025-04-30 13:41
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