刘少煜:一种通过提高界面处sp2-碳含量改良4H-SiC欧姆接触的方法

视频WBSC 20212024-04-24 20:18
329播放 · 0评论未经作者授权,禁止转载
1515
稿件投诉
《一种通过提高界面处sp2-碳含量改良4H-SiC欧姆接触的方法》作者:刘少煜,程新红,郑理,刘晓博,俞跃辉单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
展开更多
分享知识,共同成长。把复杂的事情掰扯明白!
相关推荐
联系客服 投诉反馈  顶部