SK海力士联合TEMC开发半导体行业首个氖气回收技术

日期:2024-04-02 阅读:307
核心提示:SK海力士4月1日宣布,与韩国特种气体公司TEMC合作开发出半导体行业首个氖气回收技术,这一成就是在与TEMC开始开发回收技术一年多

 SK海力士4月1日宣布,与韩国特种气体公司TEMC合作开发出半导体行业首个氖气回收技术,这一成就是在与TEMC开始开发回收技术一年多后取得的。氖气是稀有气体之一,也是半导体光刻工艺所必需的准分子激光气体的主要成分。氖气用作激光光源时具有不发生化学分解或变化的特点。这意味着氖一旦使用,经过分离和提纯过程去除杂质后可以回收利用。

针对这一点,SK海力士和TEMC成功开发出氖气回收技术。这些公司将氖气收集在收集罐中,否则氖气会在光刻过程后通过洗涤器排放到空气中。然后,通过TEMC的气体处理工艺,氖气被选择性地分离和纯化。纯化后的氖气将返回给SK海力士,进一步用于半导体制造工艺。目前,氖回收率为72.7%。SK海力士计划不断提高净化率,将氖回收率提高至77%。

在半导体工厂应用氖气回收技术,预计每年可减少约400亿韩元的氖气采购成本。

(来源:集微)

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