阈值高达8.4V!GaN又破解一项难题

日期:2021-06-16 来源:第三代半导体风向阅读:306
核心提示:6月8日,南方科技大学在官网宣布,他们研发的GaN器件取得了突破性进展成功将器件的阈值从1.7V提升到8.4V,解决了阈值低和阈值不
6月8日,南方科技大学在官网宣布,他们研发的GaN器件取得了突破性进展——成功将器件的阈值从1.7V提升到8.4V,解决了阈值低和阈值不稳定问题。
而有了这项技术,氮化镓有望能够采用通用型驱动器,而无需定制驱动器,可以提高安全性,降低整体成本,将进一步推动氮化镓的普及。相关研究成果已发表在IEEE International Electron Devices Meeting和IEEE Electron Device Letters上。
 
传统难题:驱动电路复杂
在理想情况下,65%的硅基功率器件应用都可以采用氮化镓进行替代,但是前提是要解决2个问题:成本较高,驱动电路复杂,特别是后者。
 
相比之下,硅器件驱动电路选择性非常广,而GaN器件对驱动的要求很严苛,需要专门的驱动器,从而增加了设计复杂度,也额外增加了系统成本。
 
据南科大解释,现有的基于“p型氮化镓肖特基栅极”的商用氮化镓功率晶体管存在阈值低和阈值不稳定问题,从而对栅极驱动电路提出了苛刻的要求,并对整个电路系统的安全性提出了挑战。
 
为此,通过优化GaN器件结构,来简化驱动设计,成为了业界的研发焦点。
南科大新技术:阈值高达8.4V
南科大研究发现,栅极p-GaN是氮化镓功率晶体管阈值不稳定性的主要来源。当p-GaN空穴量不足时,功率晶体管的阈值就会往正向漂移。传统氮化镓功率晶体管的p-GaN层为浮空状态,空穴量无法被直接控制,从而导致了器件阈值的不稳定。
 
为了解决这个问题,南科大提出一个新思路——将栅极p-GaN层用一个p型晶体管与源极进行,通过p型晶体管来控制p-GaN层与源极的空穴交换。
根据该思路,南科大制备了一种新型氮化镓功率晶体管,成功将器件的阈值从1.7V提升到3.2-8.4V范围内,可据需求自由调节,并实现了较高的阈值稳定性。
 
另外,该器件还解决了另一个难题——在传统的氮化镓功率晶体管中,阈值、反向导通电压、比导通电阻存在很强的耦合关系,无法单独优化其中一个性能,而不影响其他方面的性能。而南科大提出的结构在很大程度上,可以使阈值、反向导通电压、比导通电阻三者进行解耦,从而为同时优化三种性能提供了空间。
有了这项技术突破,预计驱动电路难题将可以得到解决,氮化镓器件未来的发展速度将会越来越快,无论是智能手机,还是厨房电器和电动汽车,氮化镓都有望成为一种高性价比的功率转换解决方案。
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