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上海壁仞科技取得封装结构专利,
提高
散热性能
晶合集成申请一种半导体结构的制作方法及动态调整系统专利,
提高
半导体结构的良率
芯导科技申请一种 T 型沟槽栅碳化硅 MOSFET 器件结构及其制备方法专利,
提高
了栅极可靠性
扬杰科技申请“一种
提高
可靠性能力的碳化硅二极管及其制备方法”专利,
提高
器件的高压 H3TRB 的可靠性
Wolfspeed推出创新碳化硅模块 以
提高
清洁能源产能
江苏能华微取得 GaN 肖特基二极管相关专利,有效
提高
了 GaN 肖特基二极管的性能
苏州晶湛半导体取得半导体结构及其形成方法专利,
提高
半导体外延层的性能
福建泓光半导体材料取得一种光刻胶自动过滤装置专利,
提高
工作效率
豪纬集团申请一种基于微纳阵列结构 GaN 基光电子芯片的制备方法专利,有效
提高
微纳结构中有源层的发光效率
全新 EVG®880 LayerRelease™ 离型层系统将半导体层转移技术产量
提高
一倍
长光华芯申请高功率半导体激光芯片性能评估及结构优化方法专利,有效
提高
评估结果准确度
广电计量申请SiCMOSFET体二极管双极退化试验方法及装置专利,
提高
了老化效率,加速了双极退化
芯联集成:全球领先的新一代IGBT器件会在24年下半年量产,大幅
提高
单位晶圆片的芯片产出数量
北京大学申请长波长InGaN基发光二极管专利,有利于
提高
发光多量子阱中的铟并入
长鑫存储申请晶圆级封装方法专利,
提高
晶圆封装的良率
比亚迪半导体申请终端结构及其制造方法以及功率器件专利,能够
提高
耐压值
北京大学申请大尺寸高热导率III族氮化物外延材料的制备方法专利,
提高
整个异质集成结构的热导率
比亚迪半导体申请逆导型IGBT功率器件专利,有效抑制负阻效应,
提高
器件性能
晶合集成取得半导体器件及其制备方法专利,改善电阻Rc并
提高
良率
美国商务部长:2030年美国芯片在全球市场份额
提高
到20%
天岳先进:持续进行碳化硅单晶基础研究以
提高
晶体生长效率和质量
华为公司申请功率器件专利,
提高
半导体器件的可靠性
北京大学申请高动态稳定性GaN器件专利,
提高
GaN HEMT的动态稳定性
工信部:将加快国家高新区科技创新和产业创新对接,
提高
科技成果转化和产业化水平
我国
提高
集成电路和工业母机企业研发费用加计扣除比例
外媒:日本将加强电动汽车充电基础设施,到 2030 年高速充电桩功率
提高
至 90 kW
日本将向晶圆厂 Sumco 提供 750 亿日元资金以
提高
产能
全球化已死,芯片成本
提高
?张忠谋5句话看半导体未来
安森美拟投资20亿美元,
提高
碳化硅(SiC)芯片的产量
德国拟
提高
补贴 以推动英特尔扩大170亿欧元芯片厂投资
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4
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