冠石科技拟建设45-28nm制程半导体光掩膜项目

日期:2023-05-17 来源:半导体产业网阅读:325
核心提示:5月16日,冠石科技发布公告称,公司拟投资建设主要生产45-28nm成熟制程的半导体光掩膜版制造项目,项目总投资约20亿元,先期投资

 5月16日,冠石科技发布公告称,公司拟投资建设主要生产45-28nm成熟制程的半导体光掩膜版制造项目,项目总投资约20亿元,先期投资16亿元,拟用地约68.8亩。


拟投资项目基本情况
 
1.建设内容:主要生产 45-28nm 成熟制程的半导体光掩膜版。
 
2.建设地点:宁波前湾新区
 
3.实施主体:公司成立全资子公司宁波冠石半导体有限公司作为项目公司,在确保公司对项目公司控股权的前提下,未来公司有可能根据实际需求调整项目公司的股权架构。
 
4.资金来源:公司将根据项目实施具体情况,适时、稳健地筹措资金,采用包括但不限于以自有资金、金融机构借款、再融资或其他融资方式合理确定资金来源。
 
5.实施进度:项目尚处于筹备阶段,未来公司将结合总体产能、下游市场需求及项目建设资金筹措等情况逐步建设并投产,预计项目建设期为 60 月(最终以项目实际建设情况为准)。
 
 
公告指出,本次拟投资项目建设周期长,预计不会对公司 2023 年度营业收入、净利润产生影响。公司深耕显示行业,主营业务产品中的偏光片、功能性器件、信号连接器、液晶面板及生产辅耗材等均系生产显示面板所需用到的主材、辅材和耗材。由于显示行业客户在生产显示面板过程中需要大量使用显示面板驱动(Display Driver IC,简称“DDIC”),而半导体光掩膜版系生产 DDIC 前端工序的关键材料之一,因此本次拟投资项目在建成达产后将与公司现有业务在客户端具备一定的协同效应,能够满足现有客户的潜在需求。
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