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极智报告|大连理工大
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极智报告|大连理工大
大连理工大学王德君教授在“SiC MOS界面陷阱的钝化技术及电子性能”报告中介绍了缺陷到底是什么样子,缺陷如何去钝化以及进一步的研究工作进展。并把下一步的工作和进一步实用化的相关内容,包括产业方向上的发展做了详细介绍。并介绍了核心的钝化技术,比较独特,这个钝化它的研究都是建立在它的物理技术之上,所以这个测试比较强。
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2024-05-01 09:38
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