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北方华创“半导体设备的
工艺
腔室”专利公布
CSPSD 2025前瞻|爱发科王鹤鸣:面向功率器件制造的先进离子注入解决方案的集成
工艺
与创新
连科半导体8吋/12吋SiC电阻炉及
工艺
成套技术取得突破
三星启动1nm
工艺
研发 2029年后量产
日本Rapidus拟7月完成2纳米制程
工艺
半导体试产
中微公司发布首款晶圆边缘刻蚀设备Primo Halona™, 刻蚀关键
工艺
全覆盖再进一步
芯联集成:公司SiC MOSFET系列
工艺
平台方面实现了650V到2000V系列的全面布局
芯粤能半导体成功开发第一代碳化硅沟槽MOSFET
工艺
平台
新微半导体宣布推出650V E-mode氮化镓功率
工艺
代工平台
赛微电子:公司已开展深圳产线建设,氮化镓芯片仍处于
工艺
开发阶段
晶合集成与思特威签署深化战略合作协议,聚焦攻克CIS Stacked
工艺
瓶颈
北方华创申请
工艺
腔室及半导体
工艺
设备专利,双重密封提高射频线圈处的密封性
日月光半导体取得一种封装结构专利,简化了制造
工艺
北方华创“上电极装置及半导体
工艺
设备”专利公布
钧联电子安徽省首条先进
工艺
SiC车规功率模块产线下线!
三星2nm
工艺
SF2试产良率超预期,Exynos 2600量产计划稳步推进
上海积塔半导体取得晶圆承载装置及应用其的半导体
工艺
设备专利,避免晶圆拿取时破碎
北方华创“一种腔室清洁方法及半导体
工艺
设备”专利公布
四方达:年产70万克拉功能性金刚石产业化项目将全部使用自主研发的MPCVD设备及CVD金刚石
工艺
粤芯半导体新建12英寸集成电路模拟特色
工艺
生产线项目(三期)通线
上海积塔半导体申请检测晶圆位置的专利,能够确保后续晶圆环切等
工艺
顺利进行
投资20亿!路芯半导体掩膜版生产项目首批
工艺
设备机台入厂
路芯半导体掩膜版生产项目首批
工艺
设备机台成功搬入
魏少军关于芯片设计业的几点思考:应大力发展不依赖先进
工艺
的芯片设计技术
中国科学院研制出新型锆钛酸铅光子集成
工艺
开发套件
昕感科技申请一种终端复合结构及高压 SIC 器件专利,提升终端效率并提高
工艺
容错率
北方华创“
工艺
气体喷嘴及半导体
工艺
腔室”专利公布
华虹半导体“低压超结MOSFET的
工艺
方法”专利公布
重庆芯联微电子申请掩膜版图形及其优化方法专利,解决集成电路版图
工艺
缺陷
电子
工艺
装备收入增长,北方华创前三季度营收同比增加39.51%
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