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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所投影式光刻机采购项目（第二次）公开招标公告
 评论 ⋅  2025-04-29 16:57
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所投影式光刻机采购项目（第二次）公开招标公告
 评论 ⋅  2025-04-29 11:41
俄罗斯完成首台350nm光刻机开发，将批量生产
 评论 ⋅  2025-03-26 17:32
浙江一半导体项目，首台光刻机成功搬入
 评论 ⋅  2025-03-12 11:42
浙江一半导体项目首台光刻机成功搬入！
 评论 ⋅  2025-03-12 10:02
英特尔首批两台High NA EUV光刻机投产，单季生产3万片晶圆
 评论 ⋅  2025-02-25 16:38
日本加强出口管制！42家中国实体列入“黑名单”，涉及处理器、光刻机等领域
 评论 ⋅  2025-02-06 14:01
九奕半导体设备取得光刻机送料机构专利，使硅片涂布更均匀
 评论 ⋅  2025-01-15 13:48
中芯微取得半导体生产制造用光刻机专利，可实现移动目的
 评论 ⋅  2025-01-07 14:27
大族安莱微米级光刻机项目开工
 评论 ⋅  2024-12-30 17:28
粤芯半导体申请光刻机对准方法专利，平衡晶圆中切割道与芯片的研磨速率
 评论 ⋅  2024-10-31 17:11
中芯国际申请光刻机焦距监控相关专利，实现在线焦距监控且对产品晶圆图形影响小
 评论 ⋅  2024-10-28 16:37
尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机
 评论 ⋅  2024-10-25 17:09
工信部推广国产DUV光刻机，最小套刻精度≤8nm
 评论 ⋅  2024-09-19 11:58
冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机
 评论 ⋅  2024-07-17 16:58
三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机
 评论 ⋅  2024-06-19 18:34
光刻机制造商ASML扩建计划获表决通过
 评论 ⋅  2024-06-12 16:31
俄罗斯首台光刻机制造完成：可生产350纳米工艺芯片
 评论 ⋅  2024-05-27 08:59
宜兴中车时代中低压功率器件项目首台光刻机搬入
 评论 ⋅  2024-05-13 11:35
ASML High-NA EUV光刻机取得突破，成功印刷10nm线宽图案
 评论 ⋅  2024-04-18 16:59
国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂
 评论 ⋅  2024-04-18 16:53
中荷双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见
 评论 ⋅  2024-03-28 15:43
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
 评论 ⋅  2024-03-14 17:37
盛美上海：光刻机的购入选择,KrF-line是首要目标
 评论 ⋅  2024-01-31 17:46
ASML：多款光刻机2024年将不会获得对华出口许可
 评论 ⋅  2024-01-25 10:16
美国施压要求荷兰停止向中国出口某型号光刻机 外交部回应
荷兰光刻机阿斯麦禁令
 评论 ⋅  2024-01-02 17:31
全球半导体设备五强酝酿大变局
芯片EUV光刻机ASML半导体设备
 评论 ⋅  2023-12-27 11:07
盛美上海：Track设备预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试
 评论 ⋅  2023-12-21 14:21
俄罗斯明年开始生产光刻机！
 评论 ⋅  2023-11-06 09:10
ASML在中国的光刻机加上量测的机台近1400台！
 评论 ⋅  2023-11-03 09:43
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