据媒体报道，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。

光刻机的组成十分复杂和精密，通常包含光学系统、微电子系统、计算机系统、精密机械系统、控制系统等构件。

就用途来讲，光刻机包括三种不同类型：为前道光刻机、后道光刻机、面板光刻机。

另外，上海微电子还有2.5D/3D封装光刻机，精度在0.6微米左右，和前道光刻机有差距，但依然属于世界领先水平。